マスクアライナ
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | HK-606 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ） |
| 設備名称 | マスクアライナ (Mask aligner) |
| 設置機関 | 北海道大学 |
| 設置場所 | 創成科学研究棟クリーンルーム |
| メーカー名 | ミカサ (MIKASA) |
| 型番 | MA-20 |
| キーワード | レジスト露光 |
| 仕様・特徴 | コンタクト露光 試料サイズ：最大4インチ マスクサイズ：最大5インチ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=HK-606 |
