マスクレス露光装置 [DL-1000/NC2P]
| 設備ID | NM-604 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 装置名称 | マスクレス露光装置 [DL-1000/NC2P] (Maskless Lithography [DL-1000/NC2P]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS千現地区 材料信頼性実験棟 |
| メーカー名 | ナノシステムソリューションズ (Nanosystem Solutions) |
| 型番 | DL-1000 / NC2P |
| キーワード | マスクレス、描画、リソグラフィ、レーザー、グレースケール、レジスト、光露光（マスクレス、直接描画）/ Optical exposure (maskless and direct drawing) |
| 仕様・特徴 | ・用途：高速マスクレスパターニング ・光源：405nm 半導体レーザー（h線） ・照度：10W/cm2 ・位置決め精度：500nm 以下 ・重ね合わせ精度：500nm 以下 ・最大試料サイズ：8インチ角 ・その他：グレースケール露光，スキャニング露光，自動／手動アライメント機能 |
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