レーザー直接描画装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | HK-605 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 設備名称 | レーザー直接描画装置 (Laser direct lithography system) |
| 設置機関 | 北海道大学 |
| 設置場所 | 創成科学研究棟クリーンルーム |
| メーカー名 | ネオアーク (NEOARK) |
| 型番 | DDB-201 |
| キーワード | 直接描画 |
| 仕様・特徴 | 光源：375nm半導体レーザー 描画エリア：最大50mm 試料サイズ：最大6インチ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=HK-605 |
