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レーザー直接描画装置

設備ID	HK-605
分類	リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画）
装置名称	レーザー直接描画装置 (Laser direct lithography system)
設置機関	北海道大学
設置場所	創成科学研究棟クリーンルーム
メーカー名	ネオアーク (NEOARK)
型番	DDB-201
キーワード	直接描画
仕様・特徴	光源：375nm半導体レーザー描画エリア：最大50mm 試料サイズ：最大6インチ