レーザー描画装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | HK-604 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 設備名称 | レーザー描画装置 (Laser lithography system) |
| 設置機関 | 北海道大学 |
| 設置場所 | 創成科学研究棟クリーンルーム |
| メーカー名 | ハイデルベルグ (Heidelberg) |
| 型番 | DWL66+ |
| キーワード | グレースケール露光 マスク作製 |
| 仕様・特徴 | 光源：405nm半導体レーザー 描画エリア：最大8インチ角 最小描画線幅：0.3ミクロン(HiRes)、0.8ミクロン（WMII） 255階調グレースケールモード搭載 バックアライメント機能 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=HK-604 |
