レーザー描画装置 [DWL66+]
最終更新日：2024年2月29日
| 設備ID | NM-603 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 設備名称 | レーザー描画装置 [DWL66+] (Laser Lithography [DWL66+]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS千現地区 材料信頼性実験棟 |
| メーカー名 | ハイデルベルグ・インストルメンツ (HEIDELBERG INSTRUMENT) |
| 型番 | DWL66+ |
| キーワード | マスクレス、描画、リソグラフィ、レーザー、グレースケール、レジスト、光露光（マスクレス、直接描画）/ Optical exposure (maskless and direct drawing) |
| 仕様・特徴 | ・光源：375nm 半導体レーザー (70mW) ・描画モード：ラスタースキャン描画、ベクターモード描画 ・解像モード：0.3μm, 0.6μm, 0.8μm, 1.0μm ・最大試料サイズ：8インチ角 ・その他：グレースケール描画、重ね合わせ描画 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-603 |
![レーザー描画装置 [DWL66+]](data/facility_item/NM-603.jpg)