集束イオンビーム加工装置
設備ID | HK-403 |
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分類 | 微小加工装置 > 集束イオンビーム(FIB) |
装置名称 | 集束イオンビーム加工装置 (Focused Ion Beam system) |
設置機関 | 北海道大学 |
設置場所 | 創成科学研究棟01-303 |
メーカー名 | 日立ハイテク (Hitachi High-Tech) |
型番 | FB-2100 |
キーワード | TEM試料作製 薄片加工 マイクロサンプリング 大気非暴露 |
仕様・特徴 | イオン加速電圧:5 ~ 30 kV サイドエントリーステージ バルクステージ マイクロサンプリング機能 |