集束イオンビーム加工装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | HK-403 |
|---|---|
| 分類 | 微小加工装置 > 集束イオンビーム（FIB） |
| 設備名称 | 集束イオンビーム加工装置 (Focused Ion Beam system) |
| 設置機関 | 北海道大学 |
| 設置場所 | 創成科学研究棟01-303 |
| メーカー名 | 日立ハイテク (Hitachi High-Tech) |
| 型番 | FB-2100 |
| キーワード | TEM試料作製 薄片加工 マイクロサンプリング 大気非暴露 |
| 仕様・特徴 | イオン加速電圧：5 ～ 30 kV サイドエントリーステージ バルクステージ マイクロサンプリング機能 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=HK-403 |
