X線光電子分光装置
最終更新日:2024年4月5日
設備ID | HK-201 |
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分類 |
状態分析(各種分光法(元素分析・振動モード・電子状態)を含む) > X線光電子分光
(XPS(硬X線を含む)) 表面分析(深さ方向元素分析を含む) > その他 |
設備名称 | X線光電子分光装置 (X-ray photoelectron spectroscope) |
設置機関 | 北海道大学 |
設置場所 | 工学部フロンティア応用科学研究棟1-03(02) |
メーカー名 | 日本電子 (JEOL) |
型番 | JPS-9200 |
キーワード | 光電子分光 化学状態分析 デプスプロファイル測定 大気非曝露導入 X線光電子分光(XPS(硬X線を含む)) |
仕様・特徴 | 標準X線源Mg/Alツインアノード モノクロX線源 エネルギー分解能:0.65eV(モノクロX線源) アルゴンイオンエッチング銃 分析径:30μmφ~3mmφ 最大20点まで連続分析可、分析エリア:20mm×50mm トランスファーベッセル 画面共有システムによる遠隔立ち会い |
設備状況 | 稼働中 |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=HK-201 |