集束イオンビーム加工装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | HK-105 |
|---|---|
| 分類 | 微小加工装置 > 集束イオンビーム（FIB） |
| 設備名称 | 集束イオンビーム加工装置 (FIB) |
| 設置機関 | 北海道大学 |
| 設置場所 | 工学部 EM棟EM102室 |
| メーカー名 | 日本電子 (JEOL) |
| 型番 | JEM-9320FIB |
| キーワード | Gaイオン研磨 金属 半導体 セラミックス 高分子 ピックアップ装置 |
| 仕様・特徴 | ・イオン加速電圧：5 ～ 30 kV ・倍率：150（50）～300,000 ・真空系：ターボ分子ポンプ（TMP）、ロータリーポンプ（RP） ・チップオンホルダー ・バルクホルダー ・ピックアップ装置 ・遠隔観察装置 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=HK-105 |
