電子ビーム描画装置 [ELS-F125]
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最終更新日：2024年11月8日
| 設備ID | NM-601 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 電子線描画（EB） |
| 設備名称 | 電子ビーム描画装置 [ELS-F125] ( EB Lithography [ELS-F125]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS千現地区 材料信頼性実験棟 |
| メーカー名 | エリオニクス (Elionix) |
| 型番 | ELS-F125 |
| キーワード | 電子ビーム、描画、EB、リソグラフィ、ナノ、パターニング、レジスト、電子線描画（EB）/ Electron beam lithography |
| 仕様・特徴 | ・用途：高精細ナノパターニング ・電子銃：ZrO/W 熱電界放射型 ・最大加速電圧：125kV (25kV ステップで可変) ・フィールドつなぎ精度：25nm 以下(500μm フィールド） ・重ね合わせ精度：30nm 以下(500μm フィールド） ・最大試料サイズ：6 inch ・走査クロック周波数：100MHz |
| 設備状況 | 共用を終了した設備です |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-601 |
![電子ビーム描画装置 [ELS-F125]](data/facility_item/NM-601.jpg)