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TEM試料作製装置群

最終更新日:2024年4月1日
設備ID NM-516
分類 微小加工装置 > イオンミリング(TEM試料作製)
設備名称 TEM試料作製装置群 (TEM sample preparation apparatus)
設置機関 物質・材料研究機構 (NIMS)
設置場所 NIMS千現地区 精密計測実験棟103・108号室
メーカー名 Gatan 日本電子 BEUHLER Allied 日本レーザー電子 真空デバイス (Gatan JEOL BEUHLER Allied Nippon Laser & Electronics Vacuum Device)
型番 Dimple Grinder(Model 656) PIPS II(Model 695) PIPS(Model 691) Ion Slicer(EM-09100IS) ISOMET Multiprep Carbon coater(JEC-560) Platinum coater(JFC-1600) Au coater(JFC-1500) Osmium coater(NL-OPC80A) Osmium coater(HPC-1SW) PECS(Model 682) Disc Cutter(Model 601) DII-29020HD
キーワード 電子顕微鏡薄片加工
電子顕微鏡試料切断
電子顕微鏡試料機械研磨機械研磨
電子顕微鏡試料切り抜き
Arイオンビーム
カーボンコーター
白金コーター
金コーター
オスミウムコーター
精密イオンコーター
親水化処理
仕様・特徴 Dimple Grinder(Model 656)
・初期試料厚さ: 200 µm以下
・自動停止機構付き
PIPS II(Model 695)
・加速電圧: 0.1~6 kV
・液体窒素冷却ステージ
PIPS(Model 691)
・加速電圧: 0.1~6 kV
・液体窒素冷却ステージ
Ion Slicer(EM-09100IS)
・加速電圧: 1~8 kV
ISOMET
・4インチダイヤモンド切断砥石
Multiprep
・試料傾斜角度: 0~10°
・精密マイクロメーター付き
PECS(Model 682)
・コーディング材料:カーボン, クロム, 金パラジウム, コバルト
Disc Cutter(Model 601)
・金属試料の3mmディスク切り出し
TEMグリッド等の親水化処理
設備状況 稼働中
本設備の利用事例 https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-516
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