集束イオンビーム装置
本設備の共用は終了しています。
後継の設備や同様の設備は、「共用設備検索」から検索するか「技術サポート・機器利用のお問い合わせ」よりお問い合わせください。
最終更新日:2024年8月29日
設備ID | KT-404 |
---|---|
分類 | > |
設備名称 | 集束イオンビーム装置 (Focused ion beam machining apparatus) |
設置機関 | 京都大学 |
設置場所 | 京都大学宇治キャンパス |
メーカー名 | 日本電子 (JEOL) |
型番 | JEM-9310FIB |
キーワード | 透過電子顕微鏡用試料作製 |
仕様・特徴 | 集束されたガリウムイオンビームにより、セラミックスや金属など比較的硬い材料を切断し、薄膜化する装置。 ・加速電圧:5~30kV ・最大電流:10nA ・分解能:8nm |
設備状況 | 共用を終了した設備です |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=KT-404 |