ウエハプロファイラ
最終更新日：2024年4月2日
| 設備ID | KT-334 |
|---|---|
| 分類 | 膜厚・粒度測定 > 膜厚測定 |
| 設備名称 | ウエハプロファイラ (Optical Wafer Profiler) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | ケーエルエー・テンコール(株) (KLA Corporation) |
| 型番 | Zeta-388 |
| キーワード | 各種基板表面形状測定 膜厚測定/ Film thickness measurement |
| 仕様・特徴 | 非接触の３D表面形状測定装置。完全自動計測の為のハンドラを備えている。マルチモード光学系によって、透明・不透明基板の表面粗さ、段差及び膜厚測定が可能。 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=KT-334 |
