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高速高精度電子ビーム描画装置 (Ultra-High Precision Electron Beam Lithography)
- 設備ID
- KT-101
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)エリオニクス (ELIONIX INC.)
- 型番
- ELS-F125HS
- 仕様・特徴
- 加速電圧125kVを採用した電子線描画装置。最小ビーム径をΦ1.7nmにすることにより最小加工線幅5nmが可能。
・加速電圧：125kV、100kV、75kV、50kV、25kV
・最小ビーム径：1.7nm＠125kV
・描画最小線幅：5nm＠125kV
- 設備状況
- 稼働中
露光装置（ステッパー） (i-line Stepper)
- 設備ID
- KT-102
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)ニコン (NIKON CORPORATION)
- 型番
- NSR-2205i11D
- 仕様・特徴
- i線光源を用いたステップアンドリピート方式の縮小投影露光装置。
・解像度：<0.35μm
・光源：i線（365nm）
・絞り：通常、輪帯、Shrink
・縮小倍率：1/5倍（N.A. 0.63、0.57）
・露光範囲：MAX □22mm
・アライメント：LSA、FIA
・基板サイズ：Φ4,Φ6（透明基板対応）
- 設備状況
- 稼働中
レーザー直接描画装置 (Laser Pattern Generator )
- 設備ID
- KT-103
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ハイデルベルグ・インストルメンツ(株) (Heidelberg Instruments)
- 型番
- DWL2000
- 仕様・特徴
- 偏向変調されたΦ1umのLDビーム、高精度制御のステージとの組み合わせにより微細パターンを描画。
・光源：h線LD（405nm）
・基板サイズ：MAX □200mm
・描画サイズ：min0.7μm
・グレースケール露光対応
- 設備状況
- 稼働中
紫外線露光装置 (Contact Mask Aligner)
- 設備ID
- KT-106
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)ミカサ (MIKASA CORPORATION)
- 型番
- MA-10
- 仕様・特徴
- 不定形試料に対応した実験用マスクアライナ。
・光源：高圧UVランプ250W（g、h、i線）～10mW/cm2
・基板サイズ：MAXΦ4（不定形対応）
・マスクサイズ：□5、□2.5
・基板厚さ：MAX2mm
- 設備状況
- 稼働中
厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置 (Advanced Spin Coater )
- 設備ID
- KT-107
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ズース・マイクロテック(株) (SUSS MicroTec)
- 型番
- DELTA80 T3/VP SPEC-KU
- 仕様・特徴
- 高粘度レジスト対応の最大6スピンコータシステム。
・基板サイズ：Φ4、Φ6、小片基板
・対応レジスト：タンク圧送（10～400cP、800～4,000cP）、シリンジ圧送（10～600cP）
・溶剤リンス：パドル、エッジビード、バックサイド
・GRYSET方式対応
・付帯設備：ホットプレート、ベーパープライマ（HMDS）
- 設備状況
- 稼働中
レジスト塗布装置 (Photoresist Spin Coater )
- 設備ID
- KT-108
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
- 型番
- KRC-150CBU
- 仕様・特徴
- 汎用的な枚葉式スピンコーター。
・基板サイズ：Φ2～Φ6 □4-□5
・搭載レジスト：THMR-iP1800EP（10cP）、TDMR-AR80HP（5cP）
・エッジリンス付
- 設備状況
- 稼働中
スプレーコータ (Photoresist Spray Coater)
- 設備ID
- KT-109
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ウシオ電機(株) (Ushio Inc.)
- 型番
- USC-2000ST
- 仕様・特徴
- レジスト噴霧方式により凹凸基板へのコンフォーマルコーティングを実現。
・基板サイズ：Φ4～6（塗布領域：MAX□4）
- 設備状況
- 稼働中
レジスト現像装置 ( Photoresist Developer)
- 設備ID
- KT-110
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
- 型番
- KD-150CBU
- 仕様・特徴
- 汎用的な枚葉式アルカリ現像装置。
・基板サイズ：Φ2～Φ6、□2.5、□5、不定形
・現像液：アルカリ（TMAH 2.38%）
・現像方式：スプレー、パドル
・対応レジスト：UVレジスト、EBレジスト（NEB22）ほか
- 設備状況
- 稼働中
ウエハスピン洗浄装置 (Wafer Spin Cleaner )
- 設備ID
- KT-111
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
- 型番
- KSC-150CBU
- 仕様・特徴
- 汎用的な枚葉式ウエハ洗浄装置。
・基板サイズ：Φ2-Φ6、□2.5、□5、□7、不定形
・洗浄方式：ピラニア、メガソニック、２流体、純水
- 設備状況
- 稼働中
ICP質量分析装置 (Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer)
- 設備ID
- KT-112
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- アジレント・テクノロジー(株) (Agilent Technologies, Inc.)
- 型番
- Agilent7700s
- 仕様・特徴
- Arプラズマでイオン化させたサンプルを四重極質量分析計で測定することで高感度元素分析を実現。
・感度(Mcps/ppm)：50＠Li(7)、160＠Y(89)、80＠Tl(205)
・半導体アプリケーション専用設計
- 設備状況
- 稼働中