分光エリプソメーター
最終更新日：2024年4月2日
| 設備ID | KT-311 |
|---|---|
| 分類 | 膜厚・粒度測定 > 膜厚測定 |
| 設備名称 | 分光エリプソメーター (Spectral Ellipsometer) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | 大塚電子(株) (Otsuka Electronics Co., Ltd.) |
| 型番 | FE-5000 |
| キーワード | 光学定数測定 膜厚測定（多層膜も可） エリプソメーター/ Ellipsometer |
| 仕様・特徴 | ・分光エリプソスペクトルの多波長同時測定 ・基板（バルク）光学定数（n、k）が直接解析可能 ・角度可変測定により、薄膜のより詳細な解析に対応 ・測定膜厚範囲 1nm～1μm ・測定波長範囲 300nm～800nm ・サンプルサイズ 200mmx 200mm以上 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=KT-311 |
