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簡易RIE装置

設備ID	KT-253
分類	膜加工・エッチング > プラズマエッチング
装置名称	簡易RIE装置 (Tabletop Reactive Ion Etcher )
設置機関	京都大学
設置場所	京都大学桂キャンパス
メーカー名	サムコ(株) (Samco Inc.)
型番	FA-1
キーワード	ドライエッチングプラズマエッチング/ Plasma etching
仕様・特徴	サムコ社製 FA-1 使用ガス：CF₄，O₂ チラー付属