レーザアニール装置
設備ID | KT-215 |
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分類 | 熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール |
装置名称 | レーザアニール装置 (KrF Laser Annealing System ) |
設置機関 | 京都大学 |
設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
メーカー名 | AOV(株) (AOV Co., ltd.) |
型番 | LAEX-1000 |
キーワード | 照射箇所のみアニール可能 熱処理、レーザーアニール/ Thermal treatment and laser annealing |
仕様・特徴 | KrFレーザーを結像マスクを介して真空チャンバー内のサンプルに縮小投影することで、ターゲット表面のアニーリングを実現。 ・波長:248nm ・ビーム縮小率:7.95 ・分解能:5.3μm@L/S |