レーザアニール装置
最終更新日：2024年4月2日
| 設備ID | KT-215 |
|---|---|
| 分類 | 熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール |
| 設備名称 | レーザアニール装置 (KrF Laser Annealing System ) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | AOV(株) (AOV Co., ltd.) |
| 型番 | LAEX-1000 |
| キーワード | 照射箇所のみアニール可能 熱処理、レーザーアニール/ Thermal treatment and laser annealing |
| 仕様・特徴 | KrFレーザーを結像マスクを介して真空チャンバー内のサンプルに縮小投影することで、ターゲット表面のアニーリングを実現。 ・波長：248nm ・ビーム縮小率：7.95 ・分解能：5.3μm＠L/S |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=KT-215 |
