電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
| 設備ID | KT-211 |
|---|---|
| 分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
| 装置名称 | 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置 (Electron Cyclotron Resonance Ion Shower ) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | (株)エリオニクス (ELIONIX INC.) |
| 型番 | EIS-1200 |
| キーワード | シリコンや磁性材料のドライエッチング プラズマエッチング/ Plasma etching |
| 仕様・特徴 | ECRプラズマを用いた異方性ドライエッチング装置。（ナノインプリントモールド作成用途に最適） ・基板サイズ：Φ2.5、Φ6、□75×7mm ・加速電圧Vac：30～3,000V ・ビーム電流密度：>1.0mA/cm2＠Vac 1,000V／ArまたはO2 ・ビーム径：Φ108mm＠Vac 700V／ArまたはO2／0,4～0.6mA/cm2 ・用途：Si、磁性体 ほか ・ロードロック機構 |
