磁気中性線放電ドライエッチング装置
最終更新日：2024年4月2日
| 設備ID | KT-209 |
|---|---|
| 分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
| 設備名称 | 磁気中性線放電ドライエッチング装置 (Magnetic Neutral Loop Discharge Plasma Dry Etcher) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | (株)アルバック (ULVAC, Inc.) |
| 型番 | NLD-570 |
| キーワード | ガラスや複合酸化物のドライエッチング プラズマエッチング/ Plasma etching |
| 仕様・特徴 | 磁気中性線プラズマ（NLD）による低圧・低電子温度・高密度プラズマを搭載したドライエッチング装置。 ・基板サイズ：Φ6 ・RF電源：2kW＠ICP(13.56MHz)、600W＠BIAS(12.5MHz) ・プロセスガス：C4F8、CHF3、CF4、Cl2、BCl3 ほか ・用途：石英、ガラス、サファイア、金属酸化物 ほか ・ロードロック機構 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=KT-209 |
