電子線蒸着装置
最終更新日：2024年4月2日
| 設備ID | KT-203 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線) |
| 設備名称 | 電子線蒸着装置 (Electron Beam Evaporator) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | キャノンアネルバ(株) (CANON ANELVA CORPORATION) |
| 型番 | EB-1200 |
| キーワード | おもに金属材料の成膜 蒸着（抵抗加熱、電子線）/ Evaporation (resistance heating and electron beam) |
| 仕様・特徴 | リフトオフ対応の電子線蒸着装置 ・基板サイズ：MAX Φ6×3枚 ・電子銃：10kW 4連E型電子銃（22ml x 4） ・温度：RT～300℃（ハロゲンランプ） ・蒸着源-基板間距離：300mm（リフトオフ対応） ・蒸着材料：Al、Ti、Cr、Ni、Au、Pt、Ag、Pd ほか |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=KT-203 |
