両面マスクアライナー露光装置
設備ID | KT-154 |
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分類 | リソグラフィ > 光露光(マスクアライナ) |
装置名称 | 両面マスクアライナー露光装置 (Double-Sided Mask Aligner) |
設置機関 | 京都大学 |
設置場所 | 京都大学 桂キャンパス |
メーカー名 | ユニオン光学(株) (Union Optical Co., Ltd.) |
型番 | PEM-800 |
キーワード | レジストパターニング ウェハ両面露光 光露光(マスクアライナ)/ Optical exposure (mask aligner) |
仕様・特徴 | 実験用両面マスクアライナ ・基板サイズ:Φ4 ・マスクサイズ:□5 ・両面露光、アライメント機能 |