移動マスク紫外線露光装置
| 設備ID | KT-153 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ） |
| 装置名称 | 移動マスク紫外線露光装置 (Moving Mask UV Lithography) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 桂キャンパス |
| メーカー名 | (株)大日本科研 (Japan Science Engineering Co., Ltd.) |
| 型番 | MUM-0001 |
| キーワード | レジストパターニング マスク露光 |
| 仕様・特徴 | UV露光中にマスクを周期移動させることで3次元微細構造を実現。 ・基板サイズ：Φ4 ・3次元微細構造製作可能 |
