高圧ジェットリフトオフ装置
最終更新日：2024年4月2日
| 設備ID | KT-118 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > レジスト処理装置 |
| 設備名称 | 高圧ジェットリフトオフ装置 (High Pressure Jet Lift-off System) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.) |
| 型番 | KLO-200SV1 |
| キーワード | レジスト剥離 レジスト処理装置/ Resist processing |
| 仕様・特徴 | 高圧ジェット（NMP）を用いた枚葉式スピンリフトオフ装置。 ・基板サイズ：Φ4、Φ6、不定形 ・高温NMPによるレジスト膨潤（MAX80℃） ・MAX14MPaの高圧ジェットによるバリ＆再付着防止 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=KT-118 |
