超臨界洗浄・乾燥装置
最終更新日：2022年6月9日
| 設備ID | KT-117 |
|---|---|
| 分類 | 熱処理・ドーピング > その他 |
| 設備名称 | 超臨界洗浄・乾燥装置 (Supercritical Rinser & Dryer) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | (株)レクザム (Rexxam Co., Ltd.) |
| 型番 | SCRD401 |
| キーワード | 微細構造物の洗浄・乾燥 |
| 仕様・特徴 | 超臨界CO2により微細構造物を変形・破壊せずに洗浄・乾燥が可能。 ・基板サイズ：MAXΦ4 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=KT-117 |
