有機現像液型レジスト現像装置
最終更新日：2024年4月2日
| 設備ID | KT-114 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > レジスト処理装置 |
| 設備名称 | 有機現像液型レジスト現像装置 (EB-Resist Developer) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.) |
| 型番 | KD(EB)-150CBU |
| キーワード | 有機現像 レジスト処理装置/ Resist processing |
| 仕様・特徴 | 汎用的な枚葉式有機系現像装置。 ・基板サイズ：Φ4、Φ6、□30mm、□40mm ・現像液：有機溶剤系現像液、IPAリンス |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=KT-114 |
