有機現像液型レジスト現像装置
設備ID | KT-114 |
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分類 | リソグラフィ > レジスト処理装置 |
装置名称 | 有機現像液型レジスト現像装置 (EB-Resist Developer) |
設置機関 | 京都大学 |
設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
メーカー名 | (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.) |
型番 | KD(EB)-150CBU |
キーワード | 有機現像 レジスト処理装置/ Resist processing |
仕様・特徴 | 汎用的な枚葉式有機系現像装置。 ・基板サイズ:Φ4、Φ6、□30mm、□40mm ・現像液:有機溶剤系現像液、IPAリンス |