レジスト現像装置
最終更新日：2024年4月2日
| 設備ID | KT-110 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > レジスト処理装置 |
| 設備名称 | レジスト現像装置 ( Photoresist Developer) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.) |
| 型番 | KD-150CBU |
| キーワード | レジスト現像 レジスト処理装置/ Resist processing |
| 仕様・特徴 | 汎用的な枚葉式アルカリ現像装置。 ・基板サイズ：Φ2～Φ6、□2.5、□5、不定形 ・現像液：アルカリ（TMAH 2.38%） ・現像方式：スプレー、パドル ・対応レジスト：UVレジスト、EBレジスト（NEB22）ほか |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=KT-110 |
