レジスト現像装置
設備ID | KT-110 |
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分類 | リソグラフィ > レジスト処理装置 |
装置名称 | レジスト現像装置 ( Photoresist Developer) |
設置機関 | 京都大学 |
設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
メーカー名 | (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.) |
型番 | KD-150CBU |
キーワード | レジスト現像 レジスト処理装置/ Resist processing |
仕様・特徴 | 汎用的な枚葉式アルカリ現像装置。 ・基板サイズ:Φ2~Φ6、□2.5、□5、不定形 ・現像液:アルカリ(TMAH 2.38%) ・現像方式:スプレー、パドル ・対応レジスト:UVレジスト、EBレジスト(NEB22)ほか |