レジスト塗布装置
設備ID | KT-108 |
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分類 | リソグラフィ > レジスト処理装置 |
装置名称 | レジスト塗布装置 (Photoresist Spin Coater ) |
設置機関 | 京都大学 |
設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
メーカー名 | (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.) |
型番 | KRC-150CBU |
キーワード | レジスト塗布 レジスト処理装置/ Resist processing |
仕様・特徴 | 汎用的な枚葉式スピンコーター。 ・基板サイズ:Φ2~Φ6 □4-□5 ・搭載レジスト:THMR-iP1800EP(10cP)、TDMR-AR80HP(5cP) ・エッジリンス付 |