厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
最終更新日：2024年4月2日
| 設備ID | KT-107 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ） |
| 設備名称 | 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置 (Advanced Spin Coater ) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | ズース・マイクロテック(株) (SUSS MicroTec) |
| 型番 | DELTA80 T3/VP SPEC-KU |
| キーワード | レジスト塗布 レジスト処理装置/ Resist processing |
| 仕様・特徴 | 高粘度レジスト対応の最大6スピンコータシステム。 ・基板サイズ：Φ4、Φ6、小片基板 ・対応レジスト：タンク圧送（10～400cP、800～4,000cP）、シリンジ圧送（10～600cP） ・溶剤リンス：パドル、エッジビード、バックサイド ・GRYSET方式対応 ・付帯設備：ホットプレート、ベーパープライマ（HMDS） |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=KT-107 |
