紫外線露光装置
設備ID | KT-106 |
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分類 | リソグラフィ > 光露光(マスクアライナ) |
装置名称 | 紫外線露光装置 (Contact Mask Aligner) |
設置機関 | 京都大学 |
設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
メーカー名 | (株)ミカサ (MIKASA CORPORATION) |
型番 | MA-10 |
キーワード | レジストパターニング 紫外線露光 光露光(マスクアライナ)/ Optical exposure (mask aligner) |
仕様・特徴 | 不定形試料に対応した実験用マスクアライナ。 ・光源:高圧UVランプ250W(g、h、i線)~10mW/cm2 ・基板サイズ:MAXΦ4(不定形対応) ・マスクサイズ:□5、□2.5 ・基板厚さ:MAX2mm |