高速高精度電子ビーム描画装置
設備ID | KT-101 |
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分類 | リソグラフィ > 電子線描画(EB) |
装置名称 | 高速高精度電子ビーム描画装置 (Ultra-High Precision Electron Beam Lithography) |
設置機関 | 京都大学 |
設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
メーカー名 | (株)エリオニクス (ELIONIX INC.) |
型番 | ELS-F125HS |
キーワード | レジストパターニング 電子線描画 |
仕様・特徴 | 加速電圧125kVを採用した電子線描画装置。最小ビーム径をΦ1.7nmにすることにより最小加工線幅5nmが可能。 ・加速電圧:125kV、100kV、75kV、50kV、25kV ・最小ビーム径:1.7nm@125kV ・描画最小線幅:5nm@125kV |