両面露光用マスクアライナ
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | NU-257 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ） |
| 設備名称 | 両面露光用マスクアライナ (Mask aligner) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | 工学部2号館1階 |
| メーカー名 | ユニオン光学 (Union) |
| 型番 | PEM800 |
| キーワード | 光リソグラフィ コンタクト露光 両面露光 |
| 仕様・特徴 | ・両面露光が可能 ・対応基板サイズ：最大４インチ ・最小パターン：3.0μm |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NU-257 |
