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両面露光用マスクアライナ

設備ID	NU-257
分類	リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ）
装置名称	両面露光用マスクアライナ (Mask aligner)
設置機関	名古屋大学
設置場所	工学部2号館1階
メーカー名	ユニオン光学 (Union)
型番	PEM800
キーワード	光リソグラフィコンタクト露光両面露光
仕様・特徴	・両面露光が可能・対応基板サイズ：最大４インチ・最小パターン：3.0μm