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マスクアライナ

設備ID	NU-251
分類	リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ）
装置名称	マスクアライナ (Mask aligner)
設置機関	名古屋大学
設置場所	IB電子情報館西棟5階
メーカー名	ナノテック (Nanometric Technology)
型番	LA410
キーワード	光リソグラフィコンタクト露光
仕様・特徴	・適応マスク：最大 5 inch ・適応資料：最大Φ4 inch ・有効露光範囲：Φ80 mm以上