両面露光用マスクアライナ
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | NU-250 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ） |
| 設備名称 | 両面露光用マスクアライナ (Mask aligner) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | IB電子情報館西棟5階 |
| メーカー名 | Suss MicroTec AG (Suss MicroTec AG) |
| 型番 | MJB-3 |
| キーワード | 光リソグラフィ コンタクト露光 両面露光 |
| 仕様・特徴 | ・最大ウェーハサイズ：3 inch（吸引モード），4 inch（ソフトコンタクト） ・照射範囲：3×3 inch ・対応基板厚さ：4.5 mm 両面露光：可能（赤外線照明） |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NU-250 |
