高精度電子線描画装置
| 設備ID | NU-249 |
|---|---|
| 分類 |
走査型顕微鏡 > 走査型電子顕微鏡 リソグラフィ > 電子線描画（EB） |
| 装置名称 | 高精度電子線描画装置 (Scanning electron microscope with add-on lithography system ) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | IB電子情報館西棟5階 |
| メーカー名 | 日本電子 サンユー電子 (JEOL Sanyu Electron) |
| 型番 | JSM-7000FK SPG-724 |
| キーワード | 表面形状分析 電子線露光 |
| 仕様・特徴 | ・分解能：1.2 nm(30kV) ・倍率：×10～×1,000,000 ・試料室：最大200 mm ・描画方式：ラスタースキャン方式/ブロックスキャン方式 ・描画フィールド：50 µm□/100 µm□/200 µm□/500 µm□（ラスタースキャン），2,500 µm□，1ブロック＝2.5 µm□（ブロックスキャン） |
