3次元レーザ・リソグラフィシステム群
| 設備ID | NU-246 |
|---|---|
| 分類 |
リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） 表面処理・洗浄 > ＣＯ２洗浄 |
| 装置名称 | 3次元レーザ・リソグラフィシステム群 (3 dimentional laser lithography system) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | IB電子情報館西棟5階 |
| メーカー名 | Nanoscribe KISCO (Nanoscribe KISCO) |
| 型番 | Photonic Professional SCLEAD3CD2000 |
| キーワード | fsレーザ露光 3次元造形 超臨界乾燥 |
| 仕様・特徴 | Nanoscribe Photonic Professional ・2次元加工精度：100 nm ・3次元加工精度：150 nm ・対応データ：DXF, STL KISCO SCLEAD3CD2000 ・設計温度：100 ℃ ・設計圧力：20 MPa |
