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スパッタリング装置

設備ID	NU-245
分類	成膜装置 > スパッタリング（スパッタ）
装置名称	スパッタリング装置 (Sputtering system)
設置機関	名古屋大学
設置場所	IB電子情報館西棟5階
メーカー名	キャノンアネルバ (Canon Anelva)
型番	E-200S
キーワード	スパッタ成膜
仕様・特徴	・ターゲット：SiO2，Cr，Au ・膜厚分布：Φ100 mm内±3％・基板ホルダー：Φ200 mm ・基板加熱：Max 300℃（水冷付）