スパッタリング装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | NU-245 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） |
| 設備名称 | スパッタリング装置 (Sputtering system) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | IB電子情報館西棟5階 |
| メーカー名 | キャノンアネルバ (Canon Anelva) |
| 型番 | E-200S |
| キーワード | スパッタ 成膜 |
| 仕様・特徴 | ・ターゲット：SiO2，Cr，Au ・膜厚分布：Φ100 mm内±3％ ・基板ホルダー：Φ200 mm ・基板加熱：Max 300℃（水冷付） |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NU-245 |
