レーザ描画装置
設備ID | NU-244 |
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分類 | リソグラフィ > 光露光(マスクレス、直接描画) |
装置名称 | レーザ描画装置 (Laser lithography) |
設置機関 | 名古屋大学 |
設置場所 | IB電子情報館西棟5階 |
メーカー名 | Heidelberg Instruments (Heidelberg Instruments) |
型番 | mPG101-UV |
キーワード | レーザ描画 グレースケール露光 |
仕様・特徴 | ・対応基板:100 mm ×100 mm ・加工精度:3 µm ・最小アドレスグリッド:100 nm ・対応データ:DXF,CIF,BMP |