レーザ描画装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | NU-244 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 設備名称 | レーザ描画装置 (Laser lithography) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | IB電子情報館西棟5階 |
| メーカー名 | Heidelberg Instruments (Heidelberg Instruments) |
| 型番 | mPG101-UV |
| キーワード | レーザ描画 グレースケール露光 |
| 仕様・特徴 | ・対応基板：100 mm ×100 mm ・加工精度：3 µm ・最小アドレスグリッド：100 nm ・対応データ：DXF，CIF，BMP |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NU-244 |
