ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
設備ID | NU-237 |
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分類 |
表面処理・洗浄 > プラズマ処理 状態分析(各種分光法(元素分析・振動モード・電子状態)を含む) > X線光電子分光 (XPS(硬X線を含む)) 状態分析(各種分光法(元素分析・振動モード・電子状態)を含む) > 赤外分光 |
装置名称 | ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置 (Multipurpose plasma process system with radical monitor) |
設置機関 | 名古屋大学 |
設置場所 | 低温プラズマ科学研究センター |
メーカー名 | 自作 (Lab made) |
型番 | |
キーワード | プラズマ処理 X線光電子分光 FTIR |
仕様・特徴 | ・プラズマ処理の際に生成する温度,ラジカル密度,励起種,表面分析をIn-situで行う. ・プロセスガス:H2,N2,Ar,O2,He ・基板温度:-10℃-60℃ ・サンプル:4インチウエハ |