ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
最終更新日：2022年6月7日
| 設備ID | NU-237 |
|---|---|
| 分類 |
表面処理・洗浄 > プラズマ処理 状態分析（各種分光法（元素分析・振動モード・電子状態）を含む） > X線光電子分光 （XPS（硬X線を含む）） 状態分析（各種分光法（元素分析・振動モード・電子状態）を含む） > 赤外分光 |
| 設備名称 | ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置 (Multipurpose plasma process system with radical monitor) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | 低温プラズマ科学研究センター |
| メーカー名 | 自作 (Lab made) |
| 型番 | |
| キーワード | プラズマ処理 X線光電子分光 FTIR |
| 仕様・特徴 | ・プラズマ処理の際に生成する温度，ラジカル密度，励起種，表面分析をIn-situで行う． ・プロセスガス：H2，N2，Ar，O2，He ・基板温度：－10℃-60℃ ・サンプル：4インチウエハ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NU-237 |
