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光干渉式膜厚測定装置 (Film thickness measurement instruments)
- 設備ID
- GA-016
- 設置機関
- 香川大学
- 設備画像
- メーカー名
- シータメトリシス (ThetaMetrisis)
- 型番
- FR-Scanner-AIO-Mic-XY200
- 仕様・特徴
- 測定膜厚範囲（SiO2）：10nm – 80μm（10X）
測定精度：0.2% or 2nm
測定波長範囲：380nm～1020nm
多層膜測定：4層まで可能
測定スポット径：10,25,50,100μm
光源：ハロゲンランプ
サンプルサイズ：Max.200 x 200 mm
光学フィルター：Y-48、R-60
その他：自動マッピング
ゼータ電位＆粒径測定装置（ELSZ-2000ZS） (Zeta-potential/Particle-size analyzer (ELSZ-2000ZS))
- 設備ID
- NM-218
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 大塚電子 (Otsuka Electronics)
- 型番
- ELSZ-2000ZS
- 仕様・特徴
- ・粒径： 0.6 nm ～ 8 µm
・ゼータ電位： -200 ～ +200 mV
・試料濃度：0.00001～40％
・測定温度：0～90 ℃ (ガラスセル)、10～50 ℃ (ディスポセル)
分光エリプソメーター [UNECS-2000A] (Spectroscopic Ellipsometer [UNECS-2000A])
- 設備ID
- NM-663
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![分光エリプソメーター [UNECS-2000A]](data/facility_item/1709196827_11.jpg)
- メーカー名
- アルバック (ULVAC)
- 型番
- UNECS-2000A
- 仕様・特徴
- 1. 光源：ハロゲンランプ
2. 波長範囲：530～750 nm
3. スポット径：1mm
4. 入射角：70°固定
5. 試料サイズ：最大φ200mm
段差計 (Surface profiler)
- 設備ID
- NU-261
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- 小坂研究所 (Kosaka Laboratory)
- 型番
- ET200A
- 仕様・特徴
- ・最大サンプルサイズ：φ160×厚さ52mm
・再現性 ：1σ 0.3nm以内
・測定範囲 ：Z：600µm，X：100mm
・分解能 ：Z：0.1nm，X：0.1µm
・測定力：10µN～500µN
ゼータ電位計 (Zeta potential analyzer)
- 設備ID
- NM-013
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 大塚電子 (Otsuka Electronics)
- 型番
- ELSZ-1000Z
- 仕様・特徴
- ・ゼータ電位測定範囲：-200～200mV
・光学系：レーザードップラー法
・光源：高出力・高安定化半導体レーザー
・セル：標準セル、微量ディスポセルもしくは平板用セル
・検出器：高感度APD
・温度：10 ～ 90℃
動的光散乱光度計 (Dynamic light scattering (DLS) spectrophotometer)
- 設備ID
- NM-014
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 大塚電子 (Otsuka Electronics)
- 型番
- DLS-8000HAL
- 仕様・特徴
- ・粒径測定範囲：1.4nm～7µm
・重量平均分子量の測定範囲 ：300～2×107 Mw
・光源：He-Neレーザー(632.8nm)、固体ブルーレーザー(488nm)
・検出器：光電子増倍管（フォトンカウンティング方式）
・セル：21φ円筒セル、12φ円筒セル、5φ微量セル
・セル室温度：5～90℃
・角度範囲：5 ～ 160°
粒度分布測定装置 (Particle size analyzer)
- 設備ID
- NM-015
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 島津製作所 (Shimadzu)
- 型番
- SALD-2100
- 仕様・特徴
- ・測定範囲：0.03µm～1000µm
・光源：680nm 半導体レーザー
・測定方式：湿式測定のみ（乾式測定不可）
接触角計 (Contact angle meter)
- 設備ID
- NM-016
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- AST Products (AST Products)
- 型番
- VCA Optima-XE
- 仕様・特徴
- ・材料表面に液体を滴下して接触角を測定します。
・測定範囲：0～180°
・再現性：1°
・正確性:：0.5°
顕微分光膜厚計 [F54-XY-200-UV] (Optical Film Mapper [F54-XY-200-UV])
- 設備ID
- NM-624
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![顕微分光膜厚計 [F54-XY-200-UV]](data/facility_item/NM-624.jpg)
- メーカー名
- フィルメトリクス株式会社 (FILMETRICS)
- 型番
- F54-XY-200-UV
- 仕様・特徴
- ・用途：反射分光膜厚測定
・光源：重水素ハロゲンランプ
・波長：190-1100nm
・スポット径：10 μm以下
・測定膜厚範囲：5nm以下～30μm
・最大試料サイズ：φ8inch
・その他：自動マッピング、顕微式
エリプソメーター [MARY-102FM] (Ellipsometer [MARY-102FM])
- 設備ID
- NM-625
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![エリプソメーター [MARY-102FM]](data/facility_item/NM-625.jpg)
- メーカー名
- ファイブラボ (five Lab)
- 型番
- MARY-102FM
- 仕様・特徴
- ・用途：絶縁膜形成評価
・光源：632nm He-Neレーザー
・ビーム径：0.8mm
・入射角：50°，60°，70°
・最大試料サイズ：φ6inch