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原子層堆積装置

設備ID	NU-232
分類	成膜装置 > 原子層堆積(ALD)装置
装置名称	原子層堆積装置 (Atomic layer deposition)
設置機関	名古屋大学
設置場所	ベンチャービジネスラボラトリ
メーカー名	サムコ (Samco)
型番	AD-100LE
キーワード	原子層堆積
仕様・特徴	・Al₂O₃, SiO₂, AlO_xN_y, SiO_xN_y成膜用・基板サイズ：212 mmΦ ・加熱温度：最大500℃ ・ガス導入系：有機金属系2系統，H₂O，O₂，N₂