原子層堆積装置
最終更新日：2022年6月7日
| 設備ID | NU-232 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 原子層堆積(ALD)装置 |
| 設備名称 | 原子層堆積装置 (Atomic layer deposition) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | ベンチャービジネスラボラトリ |
| メーカー名 | サムコ (Samco) |
| 型番 | AD-100LE |
| キーワード | 原子層堆積 |
| 仕様・特徴 | ・Al2O3, SiO2, AlOxNy, SiOxNy成膜用 ・基板サイズ：212 mmΦ ・加熱温度：最大500℃ ・ガス導入系：有機金属系2系統，H2O，O2，N2 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NU-232 |
