マスクレス露光装置
| 設備ID | NU-231 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 装置名称 | マスクレス露光装置 (Maskless lithography) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | ベンチャービジネスラボラトリ |
| メーカー名 | ナノシステムソリューションズ (Nanosystem Solutions) |
| 型番 | DL-1000 |
| キーワード | マスクレス露光 |
| 仕様・特徴 | ・最大露光面積：200 mm x 200 mm ・最小画素：1 µm（高精細露光機能付） ・つなぎ合わせ精度：0.1 µm ・重ね合わせ精度：±1 µm ・オートフォーカス機能有 |
