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ICPエッチング装置

設備ID	NU-225
分類	膜加工・エッチング > プラズマエッチング
装置名称	ICPエッチング装置 (ICP etching)
設置機関	名古屋大学
設置場所	ベンチャービジネスラボラトリ
メーカー名	アルバック (ULVAC)
型番	CE-300I
キーワード	塩素エッチング
仕様・特徴	・化合物エッチング・対応基板サイズ：最大6インチ基板・プロセスガス：Cl₂