フォトリソグラフィ装置群
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | NU-223 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ） |
| 設備名称 | フォトリソグラフィ装置群 (photo lighography system) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | ベンチャービジネスラボラトリ |
| メーカー名 | 共和理研 (Kyowariken) |
| 型番 | K310P100S |
| キーワード | 光リソグラフィ コンタクト露光 |
| 仕様・特徴 | ・最大2インチ基板 ・マスクサイズ：３インチ ・最小パタンサイズ ２µm ・スピンコータ，ベーク炉，ドラフトチャンバー利用可 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NU-223 |
