レーザー描画装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | NU-222 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 設備名称 | レーザー描画装置 (Laser lithography) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | ベンチャービジネスラボラトリ |
| メーカー名 | Heidelberg Instruments (Heidelberg Instruments) |
| 型番 | DWL66FS |
| キーワード | レーザ描画 |
| 仕様・特徴 | ・最小描画サイズ：0.6 µm ・最大描画サイズ：200mm x 200mm ・直描およびガラスマスク作製 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NU-222 |
