レーザー描画装置
設備ID | NU-222 |
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分類 | リソグラフィ > 光露光(マスクレス、直接描画) |
装置名称 | レーザー描画装置 (Laser lithography) |
設置機関 | 名古屋大学 |
設置場所 | ベンチャービジネスラボラトリ |
メーカー名 | Heidelberg Instruments (Heidelberg Instruments) |
型番 | DWL66FS |
キーワード | レーザ描画 |
仕様・特徴 | ・最小描画サイズ:0.6 µm ・最大描画サイズ:200mm x 200mm ・直描およびガラスマスク作製 |