ECR-SIMSエッチング装置
最終更新日:2022年4月9日
設備ID | NU-215 |
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分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
設備名称 | ECR-SIMSエッチング装置 (ECR-SIMS etching) |
設置機関 | 名古屋大学 |
設置場所 | 先端技術共同研究施設 |
メーカー名 | 自作 (Lab made) |
型番 | |
キーワード | Arイオンエッチング エンドポイント検出 |
仕様・特徴 | (ECRイオンガン:入江工研社製 RGB-114) ・マイクロ波入力150 W ・加速電圧600 V ・イオン照射径30mm (SIMS検出器:PFEIFFER社製 EDP400) ・分析質量1-512 amu ・試料角度調整,回転機構付き |
設備状況 | 稼働中 |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NU-215 |