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ECR-SIMSエッチング装置

最終更新日:2022年4月9日
設備ID NU-215
分類 膜加工・エッチング > プラズマエッチング
設備名称 ECR-SIMSエッチング装置 (ECR-SIMS etching)
設置機関 名古屋大学
設置場所 先端技術共同研究施設
メーカー名 自作 (Lab made)
型番
キーワード Arイオンエッチング
エンドポイント検出
仕様・特徴 (ECRイオンガン:入江工研社製 RGB-114)
・マイクロ波入力150 W
・加速電圧600 V
・イオン照射径30mm
(SIMS検出器:PFEIFFER社製 EDP400)
・分析質量1-512 amu
・試料角度調整,回転機構付き
設備状況 稼働中
本設備の利用事例 https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NU-215
    ECR-SIMSエッチング装置
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