8元MBE装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | NU-214 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > MBE(分子線エピタキシー) |
| 設備名称 | 8元MBE装置 (8 sources molecular beam epitaxy) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | 先端技術共同研究施設 |
| メーカー名 | 自作 (Lab made) |
| 型番 | |
| キーワード | MBE 金属成膜 多層膜 |
| 仕様・特徴 | ・蒸着源：4cc蒸着源4個、2cc蒸着源2個 ・試料サイズ30 mm角 ・高圧電源3台 ・基板加熱：1000℃ ・1kV Arイオンエッチング機構 ・20 kV RHEED表面観察機能 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NU-214 |
