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8元マグネトロンスパッタ装置

設備ID NU-213
分類 成膜装置 > スパッタリング(スパッタ)
装置名称 8元マグネトロンスパッタ装置 (8 sources magnetron sputtering)
設置機関 名古屋大学
設置場所 先端技術共同研究施設
メーカー名 自作 (Lab made)
型番
キーワード スパッタ
成膜
多層膜
仕様・特徴 ・2インチカソード8本
・試料サイズ30 mm角
・RF電源 500 W 2台
・1 kV Arイオンエッチング機構
・試料交換室に8サンプルバンク可
    8元マグネトロンスパッタ装置
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