8元マグネトロンスパッタ装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | NU-213 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） |
| 設備名称 | 8元マグネトロンスパッタ装置 (8 sources magnetron sputtering) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | 先端技術共同研究施設 |
| メーカー名 | 自作 (Lab made) |
| 型番 | |
| キーワード | スパッタ 成膜 多層膜 |
| 仕様・特徴 | ・2インチカソード8本 ・試料サイズ30 mm角 ・RF電源 500 W 2台 ・1 kV Arイオンエッチング機構 ・試料交換室に8サンプルバンク可 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NU-213 |
