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電子線露光装置

設備ID	NU-206
分類	リソグラフィ > 電子線描画（EB）
装置名称	電子線露光装置 (Electron beam lithography)
設置機関	名古屋大学
設置場所	先端技術共同研究施設
メーカー名	日本電子 (JEOL)
型番	JBX6300FS
キーワード	電子線露光
仕様・特徴	・加速電圧：25/50/100kV ・最小ビーム径：2nm ・ビーム電流：100pA-2nA ・重ね合わせ精度：±9nm ・最大試料サイズ：4inchφ