電子線露光装置
最終更新日：2022年6月24日
| 設備ID | NU-206 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 電子線描画（EB） |
| 設備名称 | 電子線露光装置 (Electron beam lithography) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | 先端技術共同研究施設 |
| メーカー名 | 日本電子 (JEOL) |
| 型番 | JBX6300FS |
| キーワード | 電子線露光 |
| 仕様・特徴 | ・加速電圧：25/50/100kV ・最小ビーム径：2nm ・ビーム電流：100pA-2nA ・重ね合わせ精度：±9nm ・最大試料サイズ：4inchφ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NU-206 |
