3元マグネトロンスパッタ装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | NU-205 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） |
| 設備名称 | 3元マグネトロンスパッタ装置 (3 sources magnetron sputtering) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | 先端技術共同研究施設 |
| メーカー名 | 島津製作所 (SHIMADZU) |
| 型番 | HSR-522 |
| キーワード | スパッタ 成膜 多層膜 |
| 仕様・特徴 | ・4インチカソード3本 ・RF電源500 W 2台 ・逆スパッタ機構 ・基盤回転 ・シャッター開閉機構による多層膜成長可能 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NU-205 |
