薄膜X線回折装置
本設備の共用は終了しています。
後継の設備や同様の設備は、「共用設備検索」から検索するか「技術サポート・機器利用のお問い合わせ」よりお問い合わせください。
最終更新日：2024年8月28日
| 設備ID | NU-203 |
|---|---|
| 分類 | 回折・散乱 > X線回折 |
| 設備名称 | 薄膜X線回折装置 (X-ray diffraction) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | 先端技術共同研究施設 |
| メーカー名 | RIGAKU (RIGAKU) |
| 型番 | ATX-G |
| キーワード | X線回折 X線反射率 |
| 仕様・特徴 | ・線源：Cu Kα線 18kW ・多層膜ミラー，Geモノクロメーター付き ・測定モード：θ－2θスキャン，ロッキングカーブ，逆格子面マッピング，膜面内φスキャン，φ－2θχスキャンなど |
| 設備状況 | 共用を終了した設備です |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NU-203 |
