急速加熱処理装置
最終更新日：2024年4月19日
| 設備ID | NU-202 |
|---|---|
| 分類 | 熱処理・ドーピング > 熱処理、レーザーアニール |
| 設備名称 | 急速加熱処理装置 (Rapid thermal annealing) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | 先端技術共同研究施設 |
| メーカー名 | AG Associates (AG Associates) |
| 型番 | Heatpulse 610 |
| キーワード | 急速熱処理 |
| 仕様・特徴 | ・温度範囲：400～1200℃ ・昇温速度：200℃/sec |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NU-202 |
